ASML國內展出兩款新型光刻機：不高于110nm、4倍生產效率
11月7日消息，國內光刻高于在日前的展出第八屆進博會上，荷蘭ASML公司在國內展示了兩款新型光刻機TWINSCAN XT:260及TWINSCAN NXT:870B。兩款率
但是新型這兩款光刻機不是用于大家平常接觸的那種場合，不是倍生用于芯片光刻生產的，而是產效用于3D封裝等先進封裝領域的。
了解國內光刻機產業的國內光刻高于網友可能明白了，現在不是展出上微電子去搶ASML的DUV/EUV光刻機生意，而是兩款率ASML來搶國內公司的封裝光刻機生意了。
TWINSCAN XT:260、新型TWINSCAN NXT:870B是倍生一款i線光刻機，光源用的產效是365nm的，掃描曝光，國內光刻高于分辨率不高于400nm，展出NA 0.35，兩款率每小時晶圓產量可達270片，可以處理最高1.7mm厚度的300mm晶圓，而非通常的775um厚度晶圓。
ASML表示，該款光刻機與佳能FPA-5520iV等型號相比，生產效率是其4倍水平。
至于TWINSCAN NXT:870B，它是更先進的KrF光刻機，波長248nm，分辨率提升到了不高于110nm，NA 0.8，每小時晶圓產量提升到了400片，生產效率更高。
從ASML此舉可以看出，高端光刻機固然重要，但是隨著先進封裝成為AI芯片的關鍵一環之后，ASML也在尋求新的發展點，將封裝光刻機也納入市場推廣范圍，這種光刻機雖然不至于動不動兩三億美元一臺，但用量很大，發展前景并不差。
同時對國內來說，ASML的EUV光刻機由于都懂的原因是沒法賣的，但封裝光刻機的精度不再限制之內，ASML是有意擴展這個市場。
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